Sn晶须的生长是一个自发的过程,对于铜引脚的纯Sn镀层而言,生长Sn晶须是绝对的,而生长的快慢则可以从镀层工艺等方面进行相应的抑制,以减缓在规定时间内Sn晶须的生长长度和密度。
在Cu引脚与Sn镀层之间预镀一薄层Ni 作为扩散阻挡层,也可起到有效抑制Sn晶须生长的作用。但是在-55~+85℃的温度循环条件下,即使有Ni预镀层,晶须依然会加速生长。
抑制界面和晶界化合物形成是抑制室温晶须生长的对策。为了防止沿着Sn晶界处形成Cu6Sn5,最好避免使用铜引线架,而改用“42”合金、黄铜或镀镍层为基底镀层等都是可行的对策。
关注钎料中Sn含量的变化,纯Sn含量越高,形成Sn晶须的可能性就越大。
使用喷Sn、Sn合金、再流Sn等表面处理工艺。